Главная страница  Транзисторные схемы 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 [ 100 ] 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223

Что касается величины Сод. то для ее определения нужно быто бы проинтегрировать по координате у функцию qN% (у), где N1 - концентрация обнаженных донорных ионов. Такая задача, как уже отмечалось в § 1-12, весьма сложна в математическом отношении. Поэтому воспользуемся аппроксимацией, которая использовалась при анализе ступенчатого р-п перехода в гл. 2, а именно, положим N1 = = const, считая, что п о д в и ж н ы е носители в обедненном слое полностью отсутствуют. Тогда по аналогии с (1-906) получаем для толщины обедненного слоя:

-,/ 2eo8 t/ V qn,

Искомую величину найдем, умножая толщину I на объемную плотность заряда qN,:

Qo, = qNJ = a\ru;, (5-49)

где

а ==!/ 2еое Л/д; (5-50)

- относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника.

Подставляя в (5-46) заряд Qop, выраженный с помощью (5-47) через три других заряда, используя соотношения (5-48) и (5-49) и заменяя Ех на -dUJdx, получаем следующее дифференциальное уравнение :

hV.ZcJUg-UoP-Ux-~Vlh), (5-51)

Со = (5-52)

- удельная емкость затвора относительно поверхности полупро-во,а,ника;

о/=%- + Фм5 (5-53)

- напряжение спрямления зон (с. 70), т. е. то напряжение на затворе, которое меняет потенциал поверхности на величину фо, обеспечивая значение Ф5 ~ О (см. рис. 5-24, а).

(когда нет тока и напряжение подается только на затвор), а о неравновесном состоянии, когда ифО) та протекает ток.

Использование разности - вместо объясняется тем, что нулевой заряд на затворе получается при условии [/3 = 9,5 (см. рис. 5-30, б); следовательно отрицательные заряды, характерные для рабочего режима транзистора, соответствуют не полному потенциалу U, а разности

Знак минус в правой части (5-51) опущен, так как под Ux понимается модуль отрицательного потенциала поверхности.



Например, если диэлектриком является двуокись кремния = 3,5), то при толщине d = 0,1 мкм, контактной разности потенциалов фмз = 0,3 В и плотности поверхностных состояний 2 -10 см- (т. е. Qon с 3 lO * Кл/см) получаем: Со ~ 3 Ю * Ф/см (30 000 пФ/см) и и OF ~ 1,3 В.

Умножив обе части уравнения (5-51) на dx и проинтегрировав левую часть в пределах от О до L, а правую - от ф (см. рис. 5-26, б) до sm + с. найдем искомую вольт-амперную характеристику:

/е = Ь {(t/з - UoP- Ф.т) f/c - 4 Ш - 4 ; f(Ф.т + f/c)3/2 - фз/f j .

(5-54)

Параметр Ъ, определяющий масштаб характеристики, называется удельной крутизной и имеет значение

Ь=Ь?£о в, (5.55)

При типичных параметрах р, == 200 смВ-с, Со = З-Ю * Ф/см (см. выше) и Z/L = 10 получаем Ь = 60 мкА/В.

Выражение (5-54) неудобно для инженерных расчетов из-за наличия членов в степени 3/2, однако из этого выражения можно сделать полезные выводы.

Прежде всего определим пороговое напряжение МДП транзистора (см. с. 296), при котором образуется дырочный канал. Для этого сначала найдем из (5-54) проводимость канала dlJdU; затем подставим f/c = 0> что соответствует отсутствию тока, т. е. одинаковой толщине канала вдоль оси х; наконец, положим dlJdU = = =0 - условие, означающее исчезновение проводящего канала. Из этого условия нетрудно получить пороговое напряжение на затворе; запишем его в следующем виде:

f/o = f/oF+f/oB- (5-56)

Здесь UoB - составляющая порогового напряжения, соответствующая значению ф = ф, т. е. обеспечивающая искривлен ие зон вверх , достаточное для образования канала:

/ов=-]/ ф + ф5т- (5-57)

Назовем величину (7ов в отличие от VoP напряжением изгиба

зон.

Величина f/ов определяет минимальное значение порогового напряжения, когда отсутствуют такие привходящие факторы, как поверхностные состояния в полупроводнике и ионы

По ряду причин, обусловленньк влиянием границы раздела, приповерхностная подвижность носителей в формуле (5-55) обычно в 2-3 раза меньше объемной.



в диэлектрике, т. е. когда Ugp - 0. Например, для кремниевого МДП транзистора при концентрации доноров Л/д = 10* 10 см~* коэффициент а согласно (5-50) составляет (2-6)-10 ** В/ Ф/см, а потенциал Ферми ц)р согласно (1-21в) - около 0,3 В. Тогда при Со = 3 10 ** Ф/см и (psm = 2ц>р (см. с. 296) напряжение f/ов лежит в пределах 1-2 В.

Полное пороговое напряжение Uq, определяемое формулой (5-56), у современных МДП транзисторов обычно составляет 2,5-4В.

Из выражения (5-54) следует, что функция (U) имеет максимум при некотором напряжении f/c. , которое можно найти путем дифференцирования. Правее максимума ток согласно (5-54) должен был бы уменьшаться. На самом деле он сохраняет максимальное значение, так как при условии 11 > f/c.n качественно меняется механизм работы МДП транзистора (см. предыдущий раздел) и выражение (5-54) теряет силу. Следовательно, выражение (5-54) описывает только начальные (крутые) участки вольт-амперных характеристик (см. рис. 5-28, а), где ток зависит от о б о и х напряжений f/з и f/c. В режиме насыщения (на пологих участках) ток практически зависит только от напряжения 11, а влияние напряжения f/c нуждается в специальном анализе (см. ниже).

В заключение отметим, что в л-канальных транзисторах с подложкой р-типа начальный обогащенный слой тоже электронный (см. сноску иа с. 295); поэтому напряжение плоских зон ирбудег по-прежнему отрицательным , тог.ча как напряжение изгиба зон положительно. Если lUpl > то < О, т. е. транзистор будет иметь канал даже при t/s= О и, следовательно, будет аналогичен МДП транзистору со встроенным каналом, хотя технологически такой канал не предусмотрен (об этой трудности уже упоминалось в сноске на с. 296). При условии \ир\ < обеспечивается индуцированный канал, причем пороговое напряжение Uo будет меньще, чем у р-канальных транзисторов. Однако воспро нзводимость величины Uq обычно хуже из-за разброса напряжения Up, обусловленного трудно контролируемыми факторами.

Характеристики и параметры в 1-м приближении. Рассмотрим самую простую аппроксимацию выражения (5-54), которой удобно пользоваться при инженерных расчетах. Заменим сумму Uop + (Psm на полное пороговое напряжение U, а членами с коэффициентом а/Со пренебрежем. Тогда

{U,-Uo}U,-iui]. (5-58)

Такая аппроксимация всегда действительна при малых стоковых напряжениях {11 < Ът)- В этом легко убедиться, разлагая функцию {(psm + UY в ряд Маклорсна с точностью до двух первых членов, подставляя их в выражение (5-54) и учитывая (5-57) и (5-56). При значениях 11 > (Psm аппроксимация (5-58) действительна лишь в случае достаточно малых значений. а/Со, т- е. в случае

* Напомним, что применительно к р-канальным транзисторам мы пользуемся модулями зарядов и напряжений. На самом деле напряжение Uo и его компоненты в формуле (5-56) имеют отрицательные значения.



1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 [ 100 ] 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223

© 2000 - 2024 ULTRASONEX-AMFODENT.RU.
Копирование материалов разрешено исключительно при условии цититирования.